标准气体流量比混合法

总流量比混合法是动态性配气方式之一,它是根据严控一定占比的成分汽体稀释液汽体的总流量,并多方面混和而制取规范摒除 本。与制备罐装规范摒除 本对比,该法具备可以在同一配气设备上,制备出满足要求的不一样成分含量的各种各样标准气体,非常适用制备空…

厦门氧气

特种气体是由两类气体构成的。

 

一类为模块高纯度气体,另一类为混和气体。

 

到迄今为止,特种气体中模块纯气体现有260种。

 

 

在其中:

 

电子器件气体共114种,占数量的43.8%(具体常见的约44种);

 

有机化学气体共65种,占数量的25%;

 

无机物气体共35种,占数量的13.4%;

 

卤炭素气体共29种,占数量的11%;

 

放射性核素气体共17种,占数量的6.8%。

 

 

特种气体的主要用途

 

文中专业详细介绍这260种模块高纯度特种气体的主要用途。

 

1.N2-N2,纯净度规定>99.999%,作为标准气体、线上仪表盘标准气体、校准气、零点气、均衡气;用以半导体元器件制取加工工艺中外延性、外扩散、有机化学液相淀积、离子注入、低温等离子干刻、光刻技术、淬火、钢筋搭接、煅烧等工艺流程;家用电器、食品包装材料、有机化学等工业生产还要用N2。

 

2.co2-O2,>99.995%,作为标准气体线上仪表盘标准气体、校准气、零点气;还可用以诊疗气;在半导体元器件制取加工工艺中用以苛化、外扩散、有机化学液相淀积、低温等离子干刻等工艺流程;及其用以光导纤维的制取。

 

3.氩气-Ar,>99.999,作为标准气体、零点气、均衡气;用以半导体元器件制取加工工艺中晶体材料、苛化、外延性、外扩散、渗氮、喷涌、低温等离子干刻、载流、淬火、钢筋搭接、煅烧等工艺流程;特殊混合气体与工业生产混合气体也应用氢。

 

4.氡气-H2,>99.999%,作为标准气体、零点气、均衡气、校准气、线上仪表盘标准气体;在半导体元器件制取加工工艺中用以晶休生长发育、苛化、外延性、外扩散、光伏电池、钨化、离子注入、载流、煅烧等工艺流程;在有机化学、冶金工业等工业生产中也有效。

 

5.氦气-He,>99.999%,作为标准气体、零点气、均衡气、校准气、诊疗气;于半导体元器件制取加工工艺中晶体材料、低温等离子干刻、载流等工艺流程;此外,特殊混合气体与工业生产混合气体也常见。

 

6.氢气-Cl2,>99.96%,作为标准气体、校准气;用以半导体元器件制取加工工艺中晶体材料、低温等离子干刻、苛化等工艺流程;此外,用以水处理、纸桨与纺织产品的漂白剂、下业废料、废水、游泳馆的环境卫生解决;制取很多有机化学商品。

 

7.氟气-F2,>98%,用以半导体元器件制取加工工艺中低温等离子干刻;此外,用以制取六氟化铀、六氟化硫、三氟化硼和金属材料氯化物等。

 

8.二氧化氮-NH3,>99.995%,作为标准气体、校准气、线上仪表盘标准气体;用以半导体元器件制取加工工艺中渗氮工艺流程;此外,用以致冷、有机肥、原油、开采、硫化橡胶等工业生产。

 

9.氯化氢-HCI,>99.995%,作为标准气体;用以半导体元器件制取加工工艺中外延性、苛化、外扩散等工艺流程;此外,用以硫化橡胶氯氢化反应中的有机化学化工中间体、生产制造甲基丙烯酸酯和烷基氟化物时起氧氯化作用。

 

10.一氧化氮-NO,>99%,作为标准气体、校准气;用以半导体元器件制取加工工艺中有机化学液相淀积主序;制取监管环境污染的规范混合气体。

 

11.二氧化碳-CO2,>99.99%,作为标准气体、线上仪表盘标推气、校准气;于半导体元器件制取加工工艺中空气氧化、载流工艺流程警此外,还用以特殊混合气体、发电量、气体换置解决、除菌气体油漆稀释剂、泡沫灭火剂、食品类冷藏、金属材料冷暴力、饮品打气、浓烟喷涌剂、食品类存储保护气等。

 

12.氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,作为标准气体、诊疗气;用以半导体元器件制取加工工艺中有机化学液相淀积、医月麻醉药、浓烟喷涌剂、真空泵和卸压测漏;红外线光谱仪等也用。

 

13.氯化氢-H2S,>99.999%,作为标准气体、校准气;用以半导体元器件制取加工工艺中低温等离子干刻,化工中用以制取硫酸盐,如硫化钠,硫化橡胶有机化合物;作为有机溶剂;试验室定性分析用。

 

14.四氯化碳-CCl4,>99.99%,作为标准气体;用以半导体元器件制取加工工艺中外延性丫、有机化学液相淀积等工艺流程;此外,作为有机溶剂、有机化合物的钛酸异丙酯剂、香辛料的浸取剂、化学纤维的除油剂、泡沫灭火剂、分析试剂、制取氯仿和药品等。

 

15.氰化氢-HCN,>99.9,用以半导体元器件制取加工工艺中低温等离子干刻工艺流程;制取氢氰酸水溶液,金属材料氰化氢、氰氟化物;也用以制取pe睛和pe化合物的生成化工中间体。

 

16.碳酰氟-COF2,>99.99%,用以半寻体元器件制取加工工艺中低温等离子干刻工艺流程;此外,作为氟化剂。

 

17.碳酰硫-COS,>99.99%,作为校准气;用以半导体元器件制取加工工艺中离子注入工艺流程;也用以一些羧基、硫代酸、硫代硫化物和噻唑的生成。

 

18.碘化氢-HI,>99.95%,用以半导体元器件制取加工工艺中离子注入工艺流程;还用以氢碘酸水溶液制取。

 

19.嗅化氢-HBr,>99.9%,用以半导体材料制取加工工艺中低温等离子干刻工艺流程;作为氧化剂,制取有机化学及无机物澳化学物质。

 

20.硅烷-SiH4,>99.999%,电阻>100Ω/cm2,用以半导体元器件制取加工工艺中外延性、有机化学液相淀积等工艺流程。

 

21.乙硅烷-Si2H6,>99.9%,用以半导体材料制取加工工艺中有机化学液相淀积。

 

22.磷烷-PH3,>99.999%,用以半导体元器件制取加工工艺中外延性、外扩散、有机化学液相淀积、离子注入等工艺流程;磷烷与二氧化碳混和的较低浓度的气体,可用以杀掉粮库的幼虫和制取硅酸铝纤维化学物质。

 

23.砷烷-AsH3,>99.999%,用以半导体元器件制取加工工艺中外延性、外扩散、有机化学液相淀积、离子注入等工艺流程。

 

24.硼烷-B2H6,>99.995%,用以半导体元器件制取加工工艺中外延性、外扩散、空气氧化等工艺流程;用以一些化工生成全过程:如氢硼化反映(即转化成醛类),有机化学作用的衰落,制取较高的硼烷化合物和碳甲硼烷化学物质。

 

25.锗烷-GeH4,>99.999%,用以半导体元器件制取加工工艺中外延性、离子注入工艺流程。

 

26.锑烷-SbH3,>99.999%,用以半导体元器件制取加工工艺中外延性、离子注入工艺流程。

 

27.四氧甲硅烷-Si(OC2H5)4,>99.99%,用以半导体元器件制取加工工艺中有机化学液相淀积工艺流程。

 

28.己烷-C2H6,>99.99%,作为标准气体、校准气、线上仪表盘标准气体;用以半导体元器件制取加工工艺中低温等离子干刻工艺流程;还用以钢铁工业的热处理工艺,化工中制取酒精、空气氧化乙二醇、氯乙烯、高醛类、溴化氢等。

 

29.丙烷气-C3H8,>99.99%,作为标准气体、校准气、线上仪表盘标准气体;用以半导体元器件制取加工工艺中低温等离子干刻工艺流程;此外,用以然料、制冷剂、制取丁二烯与pe的原材料。

 

30.硒化氢-H2Se,>99.999%,用以半导体元器件制取加工工艺中外扩散、离子注入工艺流程。

 

31.碲化氢-H2Te,>99,999%,用以半导体元器件制取加工工艺中外扩散、离子注入工艺流程。

 

32二氯二氢硅-SiH2Cl2,>99.999%,用以半导体元器件制取加工工艺中外延性、有机化学液相淀积工艺流程。

 

33.三氯氢硅-SiHCl3,>99.999%,用以半导体元器件制取加工工艺中外延性、有机化学液相淀积工艺流程。

 

34.二甲基碲-(CH3)2Te,>99.999%,用以半导体元器件制取加工工艺中外扩散、离子注入工艺流程。

 

35.二乙基碲-(C2H5)2Te,>99.999%,主要用途同(34)。

 

36.二甲基锌(CH5)2Zn,>99.999%,用以半导体元器件制取加工工艺中有机化学液相淀积工艺流程。

 

37.二乙基锌(C2H5)2Zn,>99.999%,主要用途同(36)。

 

38.三氯化磷-PCl3,>99.99%,用以半导体元器件制取加工工艺中外扩散,锗的外延性生长发育和离子注入加工工艺;PCl3是有机化合物的优良钛酸异丙酯剂;也用以含磷量有机化合物的生成。

 

39.三钛酸异丙酯砷-AsCl3,>99.99%,用以半导体元器件制取加工工艺中的外延性和离子注入。

 

40.三氯化硼-BCl3,>99.99%,用以低温等离子干刻、外扩散;作硼载气及一些有机反应的金属催化剂;精练镁、锌、铝、合金铜时从融化金属材料中祛除氮、碳、氧化学物质。

 

41.四氯化硅-SiCl4,>99.999%,用以半导体元器件制取加工工艺中外延性、有机化学液相淀积工艺流程。

 

42.四氯化锡-SnCl4,>99.99%,用以外延性、离子注入。

 

43.四钛酸异丙酯锗-GeCl4,>99.999%,用以离子注入。

 

44.四钛酸异丙酯钦-TiCl4,>99.99%,用以低温等离子干刻。

 

45.五氯化磷-PCl5,>99.99%,用以外延性、离子注入。

 

46.五钛酸异丙酯锑-Sb=Cl5,>99.99%,用以外延性、离子注入。

 

47.六钛酸异丙酯钥-MoCl6,>99.9%,用以有机化学液相淀积。

 

48.三嗅化硼-BBr3,>99.99%,用以半导体元器件制取加工工艺中离子注入工艺流程和制取光导纤维。

 

49.三嗅化磷-PBr3,>99.99%,用以外延性、离子注入。

 

50.磷酞氯-POCI3,>99.999%,用以外扩散工艺流程。

 

51.三氟化硼-BF3,>99.99%,用以离子注入;此外,能作载气、一些有机反应的金属催化剂;精练镁、锌、铝、合金铜时从熔融金属材料中祛除氮、氧、渗碳体。

 

52.三氟化磷-PF3,>99%,用以外延性、离子注入工艺流程;此外作为氟化剂。

 

53.三氟化砷-AsF3,>99.9%,主要用途同(52)。

 

54.二氟化氨-XeF2,>99.9%,用以外延性、离子注入工艺流程;用以固定不动磨具氨的调查及原子反应堆排污有机废气中氮的测量。

 

55.三氟氯甲烷-CClF3,(R-13),>99.995%,用以低温等离子干刻工艺流程;制冷剂、中央空调均能用。

 

56.三氟甲烷-CHF3,(R-23),>99.999%,用以低温等离子干刻工艺流程;超低温制冷剂。

 

57.三氟化氮-NF3>99.99%,用以低温等离子干刻工艺流程;火箭推进剂、氟化剂。

 

58.三氟嗅甲烷气体-CBrF3,(R13B1),>99.99%,用以低温等离子干刻工艺流程;还用以中央空调、超低温冷藏及泡沫灭火剂。

 

59.三氟化硼-11-B11F3,>99.99%,用以离子注入工艺流程(纯天然硼的放射性核素,含11B8l%,10B19%。售卖的11B是萃取带有96%放射性核素BF3);还用以制取光导纤维。

 

60.四氟化碳-CF4,(R-14),>99.99%,用以低温等离子干刻工艺流程;在很低溫度下做为超低温液体用;也用以中性化及稀有气体。

 

61.四氟化硫-SF4,>98%,用以低温等离子干刻工艺流程;氟化剂、表层改性剂。

 

62.四氟化硅-SiF4,>99.99%,用以有机化学液相淀积工艺流程;制取氟硅酸以及酸盐。

 

63.四氟化锗-GeF4,>99.999%,用以离子注入工艺流程。

 

64.五氟化磷-PF5,>99.9%,用以离子注入、低温等离子干刻工艺流程;此外,作为氟化剂,汇聚、烃化及脱烃化反映、氮化合物裂化反映时作金属催化剂。

 

65.五氟氯乙烷-C2ClF6,(R-115),>99.99%,用以低温等离子干刻工艺流程;此外,作制冷剂、浓烟喷气式飞机剂。

 

66.五氟化砷-AsF5,>99%,用以外延性、离子注入工艺流程,氟化剂。

 

67.六氟己烷-C2F6,(R-116),>99.99%,用以低温等离子干刻工艺流程;作为制冷、制冷剂和中央空调;单个生产制造的原材料;化学变化中的添氟剂、电气设备的绝缘层剂。

 

68.六氟化硫-SF6,>99.99%,作为标准气体;用以有机化学液相淀积工艺流程;因为在高电压下具备很高的电阻器,作为电气设备的绝缘层剂;测漏汽体,试验室中作色谱仪的载气。

 

69.六氟化钨-WF6,>99.99%,用以有机化学液相淀积工艺流程;明显的氟化剂;也作为钨媒介。

 

70.六氟化氧-(CF3)2O2,>99.99%,用以低温等离子干刻工艺流程。

 

71.六氟乙酰-(CF3)2CO,>99.99%,主要用途同(70)。

 

72.六氟乙酞氧-(CF3CO)2O,>99.99%,主要用途同(70)。

 

73.六氟化铼-ReF6,>97%,用以离子注入工艺流程;氟化剂。

 

74.八氟丙烷气-C3F8,(R-218),>99.9%,用以低温等离子干刻工艺流程;与空调氟利昂相融协作制冷剂;高压铁塔的绝缘层剂。

 

75.八氟环丁烷-C4F8,(RC318),>99.99%,用以低温等离子干刻工艺流程;作为冷却液、制冷剂;作家用电器和电子产品的汽体绝缘层。

 

76.十二氟戊烷-C5F12,>99.9%,用以低温等离子干刻工艺流程;也可与CF4相互用。

 

77.三甲基铝-(CH3)2Al,>99.999%,用以有机化学液相淀积工艺流程;金属材料的有机化学。

 

78.三羟基镓-(CH3)3Ga>99.999%,主要用途同(77)。

 

79.三羟基锑-(CH3)3Sb,>99.999%,主要用途同(77)。

 

80.三羟基锢-(CH3)3In,>99.999%,主要用途同(77)。

 

81.三乙基铝-(C2H5)2Al,>99.999%,主要用途同(77)。

 

82.三乙基镓-(C2H5)3Ga,>99.999%,主要用途同(77)。

 

83.四乙基铅-(C2H5)4Pb,>99.999%,用以有机化学液相淀积工艺流程。

 

84.丙烯腈-C3H3N,>99.9%,用以低温等离子干刻工艺流程。

 

85.1,1,2-三氯乙烯-C2HCl3,>99.99%,作为标准气体、校准气、诊疗气;用以半导体元器件制取加工工艺中苛化工艺流程;此外,用以金属材料的除油剂和人体脂肪、油、石腊等萃取剂,衣服干洗,制冷剂,农药杀菌剂。

 

86.甲烷气体-CH4,99.999%,作为标准气体、校准气、线上仪表盘标准气体;作然料、太空飞船中汽体充电电池。

 

87.甲烷气体碳醇-CH3SH,>99.5%,作为标准气体、校准气;用以有机化学;做为喷气式飞机然料防腐剂,杀细菌剂和蛋氨酸的化工中间体。

 

88.一甲胺-CH3NH2,>99%,用以硫化促进剂、药品、染剂和火药等,并且做好有机溶剂、有机化学、冰醋酸合成纤维。

 

89.乙醇-CH3OH,>99.9%,作为标准气体,与气体混和后作校准气;用以制取室内甲醛和化肥乡用以有机化学化学物质的萃取剂和乙醇的变性剂。

 

90.二甲胺-(CH3)2NH,>99%,作为抗氧剂;在水溶液中作浮洗.剂、车用汽油增稠剂、硫化橡胶加快剂等。

 

91.二甲醚-(CH3)2O,>99.9%,在化工中作为配置丁苯橡胶和甲硫醚;作为羟基剂、萃取剂、有机溶剂;也作为冷媒。

 

92.乙炔气体-C2H2,>99.9%,作为标准气体、校准气;化工中的化工中间体,如制取丁二烯、溴化氢、丙烯酸丁酯、氯乙烯、丁二烯醚等;用以分子光谱图。

 

93.丁二烯-C2H4,>99.99%,作为线上仪表盘标准气体、标准气体、校准气;是有机化学

 

工业生产生成中的关键原材料,生产制造塑胶的化工中间体,生产制造酒精、冰醋酸、空气氧化丁二烯、氯乙烯、乙苯等的原材料;也用以电焊焊接和激光切割、制冷剂、一些新鲜水果、蔬菜水果生长发育的加快剂。94.空气氧化丁二烯-C2H4O,99.9%,作为标准气体、校准气、诊疗气;与CO2、R11、R21相融协作消毒液,珍贵文物存放,皮革制品消毒杀菌,清理面料均可选用;化工中作为化工中间体,生产制造液體或固态聚乙二醇、乙醇胺类等。

 

95.溴代丁二烯-C2H3Br,>99.9%,作为有机化学的化工中间体,用汇聚法与共聚物法来制取塑胶。

 

96.一乙胺-CH3CH2NH2,>99%,溶液中带有70%乙胺,做为以下化工制取中的化工中间体:添加剂,电镀工艺池、硫化橡胶增长速度剂等;还用以制药业、表活剂、萃取剂。

 

97.四氟乙烯-C2F4,>99%,在生产制造塑胶时做为一种关键的单个,如泰氟隆等。

 

98.溴化氢-CH4CHO,>99.9%,作为校准气;用以制取酷酸、醋醉、冰醋酸乙酷、正丁醇、树脂材料等。

 

99.二甲基二硫醚-CH3S2CH3,>99.9%,作为校准气、有机溶剂。

 

100.二甲基硫醚-CH3SCH3>99.9%,作为校准气、有机溶剂。

 

101.酒精-C2H5OH,>99.9%,作为校准气;用以有机溶剂,制取染剂、建筑涂料、药品、丁苯橡胶等。

 

102.乙酰氯-CH3COCl,99.99%,用以乙酰化剂和有机化学研发。

 

103.1-羟亚乙基-1,1双硫酸铵-C2H8P2O7,>99.99%,通称HEDPA,用以独特的清洗、纺织品漂白剂分离剂、耐磨材料和清洁卫生;在原油和煤田中作为添加剂。

 

104.环丙烷-(CH2)3,>99%,用以有机化学;药业中作麻醉药。

 

105.羟基乙炔气体-C3H4>99%,作为线上仪表盘标准气体、校准气;用以制取甲苯;化工中作生成化工中间体。

 

106.六氟甲苯-CF3COCF3,>99.9%,是明显的反映气,常与人体脂肪酮产生化学变化,用这种大环内酯可制取不一样的商品,如平稳的液體、有机溶剂、混凝土、单个、聚合物,及其农牧业及药品商品。

 

107.三甲胺-(CH3)3N,>99%,作为标准气体,水溶液中含25%的三甲胺可作抗组胺医治解决;在化工中作化工中间体,用于生产制造灭虫剂、润湿剂、发泡胶、树脂材料等表活剂。

 

108.pe-C3H8,>99.9%,作为标准气体、校准气、线上仪表盘标准气体;在化工上作为制取异丙醇、空气氧化pe、氧基醛类、四氯化碳、聚丙稀等。

 

109.丙二烯-C3H4,99%,线上仪表盘标准气体;用以有机化学化工中间体。

 

110.空气氧化pe-C3H6O,>99.9%,(别称1,2-环氧丙烷),用以制取丙二醇和塑料泡沫;也是醋酸纤维素、硝酸纤维素和环氧树脂等的有机溶剂。

 

111.羟基丁二烯醚-CH3COCH3,>99.5%,作为标准气体;用以有机化学化工中间体;塑胶和树脂材料制取时的原材料及聚合物的生产制造。

 

112.六氟丙烯-C3F6,>99.9%,用以有机化学化工中间体。

 

113.丙酰氯-CH3CH2COCl,>99.9%,用以制取硫酸、丙酸;作为还原剂。

 

114.正丁烷-C4H10,>99.99%,作为标准气体、校准气;作为然料,商业服务上关键和异丁烷混和用;化工中作制取化工中间体:丁二烯、pe、丁烯等;作浓烟喷涌剂;充进温度表球作规范饱和蒸汽压型的气压表;与氦混和作为弱电解质颗粒计算方式。

 

115.异丁烷-iC4H10,>99.99%,作为标准气体、校准气;主要用途同(114)。

 

116.乙基乙炔气体C4H5,>99%,作为标准气体、校准气;化工中做为生成化工中间体。

 

117.环丁烷-(CH2)4,>99%,做为液體有机溶剂,或与其他有机溶剂混和应用;也可做为生成化工中间体。

 

118.丁烯-1-C4H8,>99.9%,作为标准气体、校准
气;用以有机化合物的制备中间体;催化脱氢转化成丁二烯。

 

119.顺丁烯-2C4H8,>99%,作为标准气体、校准气;用以有机化合物的制备中间体;催化脱氢转化成丁二烯、酸式硫氰酸钾,放水转化成丁醇-2等;也可作为有机溶剂。

 

120.反丁烯-2-C4H8,>99%,作为标准气体、校准气;主要用途同(119)。

 

121.顺与反丁烯-2-C4H8,>99%,作为校准气;主要用途同(119)。塑胶和环氧树脂,生产制造涤纶-6;也是火箭燃料构成部分。

 

122.1,3丁二烯-C4H6,>99%,作为校准气;用汇聚法和共聚物法来生产制造丁苯橡胶、塑胶和环氧树脂,生产制造涤纶-66;也是火箭燃料构成部分

 

123.异丁烯-iC4H8,>99.9%,作为校准气,用以有机化学中间体,使空气氧化造成甲苯和苯甲酸,在高效液相或液相中催化使转化成双异丁烯等;也能用来制备丁苯橡胶,有很高的耐ph酸碱度;是优良的导体和绝缘体。

 

124.八氟-2-丁烯-C4H8(全氟丁烯),>99.5%,用以有机化学中间体。

 

125.二甲乙基胺-(CH3)2NC2H5,99.99%,一触碰到还原剂,反映强烈;与二氧化碳混和,碰到汞会造成发生爆炸反映。

 

126.正戊烷-C5H12,>99%,作为标准气体、校准气;作有机溶剂及生成中间体。

 

六氟化硫气体有哪些运用?

六氟化硫因其介电强度及灭弧性优良,六氟化硫气体多用于如隔离开关、高压变压器、髙压同轴电缆、电压互感器等。电子器件级六氟化硫是一种理想化的电子器件蚀刻工艺剂,被用于微电子技术的技术领域。 冷藏工业生产可用作冷媒,致冷范畴可在-45℃-0℃中间…

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127.异戊烷-iC5H12,>99%,作为校准气;主要用途同(126)。

 

128.2,2二甲基丙烷气-C5H12,(又叫新戊烷),>99.9%,是生产制造异丁烯的原材料,用以生产制造生成丁烯硫化橡胶。

 

129.3-羟基-1-丁烯-C5H10,(羟基丁烯),>99.95%,用以有机化学中间体;也用以提升然料的辛烷值;用以塑胶的汇聚。

 

130.特戊酰氯-(CH3)3CCOCl,>99.99%,可制备氯化氢与特戊酸;可与氧化剂反映。

 

131.苯-C5H6,>99.999%,作为标准气体、校准气、零点气;是染剂、塑胶、生成像胶、树脂材料、人造纤维、生成药品和化肥的原材料。

 

132.己烷-C6H14,>99.9%,作为标准气体、校准气;作有机溶剂。

 

133.三乙基铝三氯-C6H15Al2Cl3,>99.99%,用以生成中间体;烯类汇聚催化剂,对二甲苯化合物汇聚的催化剂。

 

134.环己烷-C6H12,>99.99%,作为标准气体;用以制备环己醇和环己酮;用以生成耐6;在涂料工业中普遍作为有机溶剂,也是环氧树脂、人体脂肪、石腊、原料油的很好有机溶剂。

 

135.己二酞氯-ClOC(CH2)5COCl,>99.99%,用以制备氯化氢与肥酸。

 

136.二甲苯-C7H8,,>99.99%,作为零点气、校准气;用以生产制造人造糖、染剂、药品和火药等;也作为有机溶剂。

 

137.丁二烯-C8H8,,>99.9%,作为校准气;用以制环氧树脂、塑胶、丁苯橡胶等。

 

138.2-乙基己酰氯-C5H10,C2H5,COCl,>99.9%,可用以制备氯化氢和2-乙基己酸。

 

139.辛酰氯-CH3,(CH2,)6COCl,>99.9%,是还原剂;可用以制备硫酸与心酸。

 

140.羟基咪哇酮-C9H15,N3O3,>99.9%,作为氧化剂。

 

141.壬酰氯-CCH3(CH2)7COCl,>99.9%,用以制备硫酸与壬酸。

 

142.新癸酰氯-C10H19OCl,>99.9%,用以制备硫酸与新癸酸。

 

143.三异丁基铝-C12H27,Al,(通称TIBA),>99.99%,用以生成中间体,是汇聚烯类和二烯类的催化剂。

 

144.十二酰氯-CH3(CH2)10COCl,>99.9%,用以制备硫酸与月桂酸。

 

145.十八酰氯-CH3(CH2)18COCl,>99.9%,用以制备硫酸与硬冰醋酸。

 

146.酚酞黄-C20H14O4,>99.9%,诊疗作为泄药。

 

147.气体(或生成气体)-21%O2,79%N2,作为零点气,超零点级空气中含CnHm<0.lppm,零点级空气中含CnHm<0.2ppm。零点级气体常常用以色谱仪火苗离子化计量检定器和总碳量检测仪中的还原剂。

 

148.仲氢-H2,>99.99%,作为火箭推进剂;中国核工业中用以气泡室;冷电子技术超低温液体供固体电路科学研究用。

 

149.纯净水-H2O,>99.9999%,作为标准气体、校准气。

 

150.氖-Ne,>99.999%,作为标准气体、特殊混合气体;用以充发亮电灯泡、整流管、信号灯、等离子技术科学研究、荧光灯管中驱动器、火花室、盖革一弥勒管、

 

激光发生器;作为超低温冷却液。

 

151.氪气-Kr,>99.995%,作为标准气体、特殊混合气体、电灯泡与电子器件工业级气。

 

152.氙气-Xe,>99.995%,作为标准气体、特殊混合气体,用以节能灯具、电子工业、填充闸流管和半波整流管。

 

153.溴气-Br2,>99.99%,用以化工中制备澳化氢和其他嗅化学物质、还原剂、试剂;也用以染剂和拍摄工业生产。

 

154.活性氧-O3,>99.99%,作为诊疗气,用以普外机器设备的消毒杀菌,人们自来水和游泳馆的清洁,工业生产废料的解决,废弃物消毒杀菌;纺织品化学纤维、纸桨和糖原的漂白剂,樟脑丸的制备,矿物质机油以及化合物的清洁。

 

155.氰气-C2N2,>99%,作为电焊焊接与激光切割耐高温金属材料,与还原剂、活性氧和氟气混和后作火箭弹与巡航导弹火箭燃料;医药学中作薰蒸剂;用以很多有机化学中的媒介物。

 

156.氯化氰-ClCN,>99%,用以有机化学;与薰蒸汽体相混和可作热原。

 

157.氟化氢-HF,>99.9%,用以制备氯化物、氟气;在异构化、冷疑全过程、汇聚、干躁、水解反应等做为催化剂;在一些有机化学或无机物反映中做为氟化剂。

 

158.亚硝酰氯-NOCl,>99%,用以有机化合物的重氮化、硝化反应、氯化作用;也用以原油熟成剂。

 

159.过氟二氯氧ClO3F,>99%,用以与氟卤素灯泡类相混和,变成火箭发动机的液体还原剂;也能够街族化学物质作可选择性的氟化剂。

 

160.碳酰氯-COCl2,(光气),>99.9%,用以染剂、药品、除荞剂、灭虫剂、生成泡沫塑料、树
脂和聚合等有机合成;还用作氯化剂。

 

161.硫酰氟-SOF2,>99.5%,用以制取氟碳喷涂化学物质;是优质的除虫薰蒸剂,用以海运集装箱、粮食作物種子、林木种子的薰蒸,库房、古代建筑、园林景观果树蛀偏干虫害及白蚁的防治,及其珍贵文物档案资料的维护;也用作金属催化剂。

 

162.羰基镍-Ni(CO)4,>99.95%,用以制取高纯度镍;做成金属材料镜及太薄的镍箔;是炭化反映中合理的金属催化剂。

 

163.羰基铁-Fe(CO)5在有的参考文献中写出Fe(CO)4〕,>99.95%,关键作铁的媒介,在车用汽油中作抗爆剂。

 

164.硫酸铵-H3PO4,>99.99%,用作校准气;用以制聚磷酸盐、凡士林硫酸铵醋、硫酸铵按化肥;还作化学药品。

 

165.过氙酸钠-Na4XeO6·8H2O,>99.99%,氧化剂,可测量水里汞成分。

 

166.一氧化碳-CO,>99.995%,用作标准气体、校准气、线上仪表盘标准气体;与氢和其他汽体混和作然料气;用以从带有铁、钻和铜的石砂中收购 镍;也可用以制取酸类、醚类和醛类化工品。

 

167.二氧化硫-SO2,>99.99%,用作标准气体、校准气、线上仪表盘标准气体;用以葡萄酒、红酒、肉类食品的防腐蚀;硫酸盐和氧硫酸盐的制取;原料油和食品类的漂白液;硫化橡胶纸桨的制取;造冰工业生产的冷却液。

 

168.二氧化氮-NO2(N2O4),>99.9%,用作标准气体;用以一些氧化还原反应的金属催化剂;在丙烯酸盐类精馏时用以避免聚合,用作有机化合物的硝化反应剂、还原剂、火箭燃料一、小麦面粉漂白液。

 

169.二氟化氧-OF2,>99.5%,用作还原剂,是较高能火箭推进剂系统软件中的构成部分。

 

170.三氧化二氮-N2O3,>99.5%,与脱灰合转化成碳酸氢铵亚硝酸钠类;在独特然料系统软件中作还原剂,也用以萜烯类的评定。

 

171.三空气氧化氙-XeO3,>99.99%,用以根据氧化还原反应替代测量空气氧化水溶液的成分(Xe6→Xe0)。

 

172.三氧化硫-SO3,>99.99%,用以化工中制取盐酸与发烟硫酸;是硫化促进剂;也用以染剂工业生产。

 

173.三氟化氯-ClF3,>99.5%,用作火箭弹巡航导弹火箭燃料,当触碰到然料时(自发性工作能力)能使其马上刚开始反映;也用作油气井管路激光切割剂,管路深达2公里也能用它来断开管道。

 

174.三氟化溴-BrF5,>99.5%,用作氟化剂和电解法有机溶剂;也用以火箭弹巡航导弹的火箭燃料。

 

175.四氟化氮-N2F4,>99.9%,氧化剂,可制取三氟化氮。

 

176.四氟化氙-XeF4,>99.9%,可用以制取过氙化学物质和三空气氧化氙水溶液。

 

177.五氟化溴-BrF5,>99%,用作氟化剂;也用以火箭弹巡航导弹的火箭燃料。

 

178.五氟化氯-ClF5,>99%,明显的还原剂,腐蚀比三氟化氯小,可制取有机化学及无机物氯化物;可作室内空间助推器的助燃。

 

179.五氟化碘-IF5,>99%,用作氟化剂和燃烧剂。

 

180.六氟化钼-MoF5>99.9%,明显的氟化剂,也用以钥的媒介。

 

181.六氟化碲-TeF5,>99.9%,用作氟化剂和啼的媒介。

 

182.氟三氯甲烷(R11)-CCl3F,>99.95%,用以冷藏工业生产、中央空调、有机溶剂

 

、滑冰场、食盐水和海面设备、浓烟喷涌剂、发泡胶、测漏、纺织产品的干洗店。

 

183.二氟二氯甲烷(R12)-CCl2F2,>99.9%,用作标准气体、校准气;用以低温空调、食品类储藏、冷藏工业生产、浓烟喷涌剂、测漏、混凝土膨胀剂、液相绝缘层材料。

 

184.二氟氯溴甲烷(R12B1)-CBrClF2,>99.9%,用以原油、甲苯、二硫化碳生产制造以及电器着火时的泡沫灭火剂。

 

185.二氟二溴甲烷(R12B2)-CBr2F2,>99.9%,用以迅速聚合;用作泡沫灭火剂。

 

186.二氯氟甲烷气体(R21)-CHCl2F,>99.9%,用以气侯很热时的中央空调、制冷剂、有机溶剂、浓烟喷涌剂、有机化学媒介物。

 

187.二氟氯甲烷(R22)-CHCiF2,>99.9%,用以制冷和中央空调;在超低温喷雾器特

 

殊状况下做浓烟喷涌剂;氟化聚合物的生产制造和测漏。

 

188.二氟甲烷(R32)-CH2F2,>99%,用作制冷剂,与五氟氯乙烷(R115)混和后产生共沸混合物的制冷剂。

 

189.氯甲烷(R40)–CH3Cl,>99.5%,用作制冷剂,局麻解决;大气气溶胶工业生产中作为喷涌汽体;有机合成中用作羟基剂;作有机溶剂或萃取剂。

 

190.溴甲烷(R40B1)-CH3Br,>99.9%,用以有机合成(添加剂)中羟基剂;超低温有机溶剂、制冷剂;土壤层与種子的薰蒸剂。

 

191.氟甲烷气体(R41)-CH3F,>99.9%,以化合物用作非易燃性的浓烟喷涌剂。

 

192.l,1,2,-三氯三氟己烷(R113)-C2Cl2F3,(别名TTE),>99.9%,用作制冷剂、传热介质;制取三氟氯乙烯(R1113)的正中间媒介物。

 

193.1,2-二氯四氟乙烷(R114)-C2Cl2F4,>99%,用作冷藏、制冷、中央空调,独立与二氟二氯甲烷(R12)混和做为护肤品浓烟喷涌剂。

 

194.1,2-二嗅四氟乙烷(R114B2)-C2Br2F4,>99.5%,用作有机溶剂、泡沫灭火剂,与其他氟碳喷涂化学物质相融协作喷涌剂。

 

195.五氟氯乙烷(R115)-C2ClF5,>99.9%,用作制冷剂、浓烟喷涌剂。

 

196.二氟氯乙烷(R142B)-C2H3ClF2,>99%,用作制冷剂、有机溶剂、和非易燃性的卤碳类物质相融协作喷涌剂。

 

197.三氟己烷(R143)-C2H3F3,>99.9%,用作制冷剂。

 

198.1,1-二氟己烷(R152A)-C2H4F2,>99%,用作制冷剂、浓烟喷涌剂、有机合成正中间媒介物。

 

199.氯乙烷(R160)-C2H3Cl,>99.9%,用以局麻的诊疗解决,普外和皮肤美容的喷雾器诊疗;在染剂工业生产中作为乙基剂、制冷剂、有机溶剂、灭虫剂的生产制造。

 

200.氟己烷(R161)-C2H5F,>99.9%,用以生成正中间媒介物。

 

201.
R-12与R152A共沸混合物(R500)-CCl2F2/C2HF5,>99.9%,作为制冷剂、中央空调。

 

202.R-22与R115共沸混合物(R502)-CHClF2/C2H4F2,>99.9%,作为制冷剂、中央空调、喷雾器。

 

203.R-23与R13共沸混合物(R503)-CClF3/CHF3,>99.9%,作为制冷剂、中央空调。

 

204.全氟丁烷(R601)-C4F10,>99%,作为绝缘层汽体。

 

205.三氟氯乙烯(R1113)-C2ClF3,>99%,用以制取润滑油脂、原料油、

 

蜡类、塑胶的汇聚剂,聚三氟氯乙烯的单个。

 

206.三氟溴丁二烯(R113B1)-C2BrF3,>99%,用以缩聚反应和有机化学化工中间体。

 

207.二氟氯乙烯(R1122)-C2HClF2,>99.9%,用以有机合成化工中间体。

 

208.1,1-二氟己烷(R1132A)C2H2F2,>99%,是一个很重要的单个,用以生产制造塑胶及聚氨酯弹性体。

 

209.氯乙烯(R1140)-C2H3Cl,>99.9%,作为标准气体;作为汇聚剂、有机化学的化工中间体。

 

210.氟丁二烯(R1140)-C2H3F,>99.9%,作为汇聚剂、有机化学的化工中间体。

 

211.氦-3–He3,>99.99%,充计数管;作稀释液制冷机组低温蓄冷,达到4.5×10-3K。

 

212.氦-4-He4,>99.99%,在室内空间运用的超低温火箭燃料、核反应堆中重水及全部常温下与超低温的液體均能用氦-4作压供气。

 

213,氘-D2,>99.95%,在中国核工业科学研究中运用在氖核网络加速器中做为抛射体;当放射性丫能放射线时做为中子源;在科学研究化学变化时,包含氢化学物质,可做为轨跡用;用以生产制造重水(D2O)。

 

214.氚-T2,>99.95%,作为标准气体,操纵每升级成1000微居里,有很普遍的开朗性,与氖氩混和做为载气,可用以检验少量N2以及它惰性气体。’

 

215.氧-18-O218,>99%,可制取H218O、D218O、S18O2。

 

216.氮-15-N215,>99%,可制取15NH3、16NO、15NO等。

 

217.氩-36–Ar36,>99.99%,计量检定值用。

 

218.氩-40-Ar40,>99.99%,计量检定值用。

 

219.氖-20Ne20,>99.99%,计量检定值用。

 

220.氖-22Ne22,>99.99%,计量检定值用。

 

221.氪-85-Kr85,>99.99%,标准气体,操纵每升级成10微居里,充电灯泡用。

 

222.氪-86-Kr86,>99.9%作为标准气体。

 

223.氙-133-Xe133,>99.9%,充电灯泡用。

 

224.碳-13-C13,>99%,可制取13CO2、13C6H8、13CO、13COS、13C2H4等。

 

225.碳-14-C14,>99%,作为标准气体,操纵每升级成100微居里。

 

226.碳-18-C18,>99%>99%,可制取C18O2、C18O。

 

227.硫-35-S35,>99%,作为标准气体,操纵每升级成100微居里。

 

近期发觉的12种,前10种为电子气,后2种为有机废气。

 

1.三氯甲烷-CHCl3,>99.9%,用以低温等离子干刻。

 

2.三氯乙烷-C2HCl3,>99.9%,用以苛化。

 

3.二甲基二氯硅烷-(CH3)2SiHCl2,>96%,用以外延性、有机化学液相淀积。

 

4.二甲基氯硅烷-(CH3)2SiHCl,>96%,用以外延性、有机化学液相淀积。

 

5.三甲基氯硅烷-(CH3)3SiCl,>95%,用以外延性、有机化学液相淀积。

 

6.二氟四氯乙烷-C2Cl4F2,>99.9%,用以低温等离子干刻。

 

7.六氟化硅-SiF2,>99.9%,用以低温等离子干刻。

 

8.八氟甲烷气体-CF8,>99.9%,用以低温等离子干刻。

 

9.异十氟丁烷-i-C4F10,>99.9%,用以低温等离子干刻。

 

10.十二氟己烷-C2F12,>99.9%,用以低温等离子干刻。

 

11.甲基丙烯酸酯羟基醚-C3H3O,>99.5%。

 

12.乙烯基乙炔-CH2CHC2H,>50%。

 

1.二甲基镉-(CH3)2Cd,纯净度>99.999%,电子气,用以MOCVD。

 

2.二乙基镉-(C2H5)2Cd,>99.999%,电子气,用以MOCVDo

 

3.四羟基锡-(CH3)4s店n,>99.999%,电子气,用以MOCVD。

 

4.四乙基锡-(C2H5)Sn,>99.999%,电子气,_用以MOCVD。、

 

5.三羟基砷-(CH3)2As,>99.999%,电子气,用以MOCVD。

 

6.三乙基砷-(C2H5)2As,>99.999%,电子气,用以MOCVD。

 

7.三乙基锑-(C2H5)3Sb,>99.999%,电子气,用以MOCVD。

 

8.二乙基铟-(C2H5)2ln,>99.9999%,电子气,用以MOCVD。

 

9.二甲基铟-(CH3)2In,)99.9999%,电子气,用以MOCVD。

&nbs
p;

10.二乙基镁-(C2H5)2Mg,>99.999%,电子气,用以MOCVD。

 

11.二甲基汞-(CH3)2Hg,>99.999%,电子气,用以MOCVD。

 

12.二乙基汞-(C2H5)2Hg,>99.999%,电子气,用以MOCVD。

 

13.三羟基磷-(CH3)3P,>99.999%,电子气,用以MOCVD。

 

14.三乙基磷-(C2H5)3P,>99.999%,电子气,用以MOCVD。

 

15.三异丁基铝-(i-C4H9)2AI,>99.9999%,电子气,用以MOCVD。

 

16.丙硅烷-Si3H8,>99%,电子气,用以CVD。

 

17.三氯化铝-AlCl3,>99.999%,电子气,用以外延性。

 

18.五氟化钽-TaF5,>99.9%,电子气,用以离子注入。

 

19.五氟化铊-TlF5,>99.9%,电子气,用以离子注入。

 

20.氯乙烯-C2H3Cl,99.9%,校准气,作为制冷剂。

 

21.氟丁二烯-C2H3F,>99.9%,校准气,用以制聚乙烯树脂和其他单个的聚合物。

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标准气体可燃气体的解决注意事项

(1) 可燃气体的排污,假如排放量很大,应挑选尽量人少的地方,留意周边严禁用火,并备有相对的消防灭火器、沙子和水。   (2) 排污气瓶中的可燃气体,工作员应立在排气口的侧边开展实际操作,防止汽体喷出来致伤。   (3)…